铝硅铁粉核心,kool-mu内核

铝硅铁粉核心,kool-mu核心,FeSiAI磁粉芯
sdndust核心,koolmu芯(sdndust核)是用5。金属软磁粉芯产生粉末制成的4%,9.6%,硅和其他合金铁做的。sdndust核心,koolmu核心被广泛使用。近年来,由于镍媒体的快速增长,sdndust优秀的成本效益的核心,koolmu核心变得突出。它已成为一种广泛使用的和广泛使用的软磁芯在当前合金系列。由于需求显著增加,进而促进生产工艺技术和产品质量的提高,它主要包括太阳能、风能转换、LED驱动电源,电压调节器,混合动力电动汽车,UPS持续的电力系统,高电流传感器,开关电源,输入电流,过滤器和其他方面。可以替代磁学CSC,东,阿诺德外国sdndust核心,koolmu核心

随着电子技术的迅速发展,要求高频、高功率密度、小型化、抗电磁干扰的电子设备越来越突出,和市场的需求正在增加。作为一种新型的复合电子材料,kool-mu核心发展迅速,由于其优良的高频电磁性能,温度稳定性好,宽恒磁导率,低损耗,低成本。它已广泛应用于设备,如输出电感器,过滤器,功率因数校正技术。

随着电子技术的发展,设备的小型化和轻导致电子设备的小型化的必要性。和小型化,功率密度,需要做磁粉

高频、低损耗特性的核心材料,虽然,kool-mu核心高频和低损耗的特点,可以从下列公式:

V = 3/4 (WR JBF)

V:磁粉芯的体积;

W:权力;

R:阻力;

J:电流密度;

B:磁感应强度;

从公式可以看出,在一定的权力,频率越高,kool-mu核心,体积越小。所以高频必须开发高频电子材料,

我,kool-mu核心高频和低损耗的条件。

现在,铁硅铝磁粉芯已经被分为五类:

最高的是8 mhz频率;我= 75,最多3兆赫的频率;我= 26,最多20 mhz频率= 60,我= 90,最大频率2 mhz,我= 125,最大频率1 mhz。例如,

损失是我= 26岁≤54 + 8% u H, Q值在300 khz, C0.26路径,V = 1。对于FeSiAI磁粉芯和我= 125,功率损耗P = 140 /公斤;

kool-mu核心是P = 680 w /公斤,这是比铁硅铝磁粉的3.8倍。

4、节能的发展不可避免地需要铁硅铝磁粉芯

金属磁粉芯主要包括铁镍钼磁粉芯,高通量磁粉芯,kool-mu核粒子核。这三类都有性能优越。但铁镍钼

磁粉含有Ni81%, Mo2% Fe17%;高磁通磁粉芯包含镍50%,铁50%;铁硅铝磁粉芯不含贵重金属镍和钼材料,并在今天的形状

根据公式,镍和钼是昂贵的,和用户使用,kool-mu核取代他们除了在军事领域。

铁粉芯具有良好的性能,低廉的价格,和被广泛使用,但功率损耗太大。铁硅铝磁粉芯我= 125,是的,我= 26岁,60岁,75年,90年
客户可以选择你需要的如下:

介质损失是最大的,但与铁粉芯相比,能耗应相对较小。铁硅铝磁粉芯的功率损耗是P = 140瓦/公斤,和铁粉芯的磁损耗是P = 680瓦/公斤,

铝硅铁粉芯是小于铁粉芯的3.8倍。

节能的条件环境下,kool-mu核是一个必然选择。

的主要应用是什么kool-mu核吗?
性能优良,kool-mu核心是上面所讨论的,和它的应用程序将在下面讨论。
有五个方面:

1。高频电力滤波器:

铁硅铝磁粉芯i = 26日0 - 200 mhz,力量比铁氧体高。目前,MnZn是1 mhz的频率最高,但电流小,NiZn的频率相对较低

高,但应用于弱电流。和kool-mu核在高电流应用中使用,可以达到几个几百安培。如今,开关电源越来越高频,过滤器是变得越来越重要。高频过滤器有节能效果,如被广泛应用于大屏幕LCD显示屏。

2。不间断电源(UPS)功率校正(PFC)

不间断电源的应用很受欢迎,如供电、通信、和电力,所有这些都使用不间断电源和大功率化的发展方向。

例如,APC在美国生产不间断电源在其在中国的子公司,印度和其他国家,高频大功率不间断电源使用铁硅铝磁粉

我的核心与渗透率C57.2x26.4x15.2 = 26。

法国的明胶美兰已经建立了一个公司在浦东,上海UPS电源的生产和发展。他们也向的应用,kool-mu内核。

3所示。扼流

最好的选择是使用,kool-mu核功率谐振电感和相移补偿电感。权力阻碍被广泛使用,全桥和半桥

桥已经窒息,开关电源输出窒息,PFC电感、变压器、和其他电感器被广泛使用。

快速上升的FeSiAI磁粉芯

4所示。脉冲变压器广泛应用于通信。当使用铁氧体,浓缩气隙需要打开,大大增加气隙的损失。然而,当使用kool-mu核心,没有气隙需要被打开

差距,没有气隙的损失,损失减少,这有很大的优势。

5。行输出变压器

行输出变压器现在常用的使用MnZn铁氧体,它有一个高损失时打开气隙。然而,当使用kool-mu核心,不需要打开气隙,降低损失,可用于

大电流电应用有很强的优势。

7,我们所做的

我厂戈德斯通已经成功developedsendust核心,也称为铁硅铝磁粉芯与磁导率i = 26岁,60岁,75年,90125年。这些都是五个国际公认的系统

列,并产业化,包括kool-mu核心和EE型铁硅铝磁粉芯。特别是代表国际水平最高的技术困难,i = 26日和20 mhz的频率,我们克服了巨大的困难,成功地开发和工业化,代表我国kool-mu核心的水平。现在我们需要加深我们的努力

化学的发展,产业的规模扩张,进一步促进国内和国际市场。

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